默认站

协商交易形式出售，接受立即报价！设备位于：日本

可联系我们预约勘察现场

销售链接：Two High-Performance Taiyo Nippon Sanso HR4469G MOCVD Epitaxy Systems from Lumentum Japan

设备简介以及照片

化合物半导体MOCVD

设备厂商：Taiyo Nippon Sanso 日本大阳日酸
型号： HR4469G
序列号： 15Q188A-00/ 15Q189A-00
年份： 2023年

数量：2套

1. 设备概述

HR4469G 是一款高性能 MOCVD（金属有机化学气相沉积）系统，专为 III-V 族化合物半导体的外延生长而设计。该系统配备卧式反应室，可在减压（低压）条件下处理单片 4 英寸晶圆。系统集成了气体供应、加热、真空抽气、安全联锁以及基于计算机的控制系统。

2. 主要特点 

卧式石英反应室： 采用 HR4000 型号。

晶圆自动传输： 配备手套箱（Glove Box）和传递箱（Pass Box）。

完善的安全系统： 符合日本《高压气体保安法》标准。

整机系统供应： 提供涵盖气体处理、真空及控制技术的全套系统。

3. 系统配置

标准配置包括：原材料供应控制系统（金属有机源与氢化物气体）、RF（射频）感应加热系统、真空抽气系统、安全联锁装置以及基于 PLC 的控制系统。

4. 反应室 / 手套箱

反应室： HR4000 水冷式卧式石英反应室，用于单片 4 英寸晶圆加工。

反应温度范围： 450 ‒ 1000°C。

基座： 表面带有 SiC（碳化硅）涂层的旋转石墨承载座。

晶圆装载： 通过配备涡轮分子泵系统的进样腔（Load-lock 承载腔）实现晶圆的自动装料与卸料。

5. 加热系统

加热方式： 射频（RF）感应加热系统（功率约 30 kW），采用 PID 温度控制。

温度稳定性： ±0.5°C。

6. 真空抽气系统

泵组配置： 工艺排气采用干泵系统（Dry Pump），高真空作业采用涡轮分子泵（TMP）。

压力控制： 通过比例控制阀实现自动压力调节。

7. 安全系统

监控机制： 实时监测有毒/易燃气体泄漏、地震、异常压力及异常温度。

联动保护： 视具体异常情况，自动联锁装置将触发安全停机、氮气吹扫或停止加热。

8. 测量与控制

硬件配置： 15 英寸 TFT 触摸屏、PLC，以及专用电脑。

控制功能： 支持自动工艺配方控制（最高支持 200 步工序）。

数据记录： 支持 CSV 格式的数据日志导出。